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適用于工業(yè)零件表面反射率變化較大情況的光學(xué)低相干測(cè)量方法示意圖
近日，中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)自動(dòng)化研究所在工業(yè)零件測(cè)量領(lǐng)域取得新進(jìn)展，提出了一種適用于工業(yè)零件表面反射率變化較大情況的光學(xué)低相干測(cè)量方法，實(shí)現(xiàn)了對(duì)鏡面、類鏡面、漫反射面等多種反射特性的工業(yè)零件關(guān)鍵參數(shù)的高精度測(cè)量。該研究成果于近期在線發(fā)表在國(guó)際儀器測(cè)量領(lǐng)域期刊IEEE TRANSACTIONS ON INSTRUMENTATION AND MEASUREMENT。
工業(yè)零件尺寸和關(guān)鍵參數(shù)的高精度測(cè)量是保證制造精度和裝配可靠性的關(guān)鍵。低相干測(cè)量方法是一種利用光學(xué)干涉現(xiàn)象的測(cè)量方法，具有精度高、測(cè)量范圍大、無(wú)損等優(yōu)點(diǎn)，在工業(yè)測(cè)量領(lǐng)域顯示出巨大的應(yīng)用潛力。然而，目前工業(yè)上的低相干性測(cè)量方法大多假設(shè)零件表面反射率恒定或變異性很小，導(dǎo)致這些方法適應(yīng)性差，適用范圍有限。
沈陽(yáng)自動(dòng)化所工藝裝備與智能機(jī)器人研究室科研團(tuán)隊(duì)提出了一種針對(duì)表面反射率變化較大的零件關(guān)鍵參數(shù)測(cè)量的工業(yè)光學(xué)低相干測(cè)量方法。團(tuán)隊(duì)建立了一個(gè)工業(yè)低相干模型，從理論上證明了其適應(yīng)表面反射率變化較大的零件測(cè)量的可行性；基于提出的測(cè)量模型，設(shè)計(jì)了光路，搭建了工業(yè)低相干系統(tǒng)，通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了所提方法的有效性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，該方法適用于包括漫反射、鏡面反射和類鏡面反射條件下的工業(yè)零件測(cè)量。
該研究成果得到了國(guó)家自然科學(xué)基金的支持。
來(lái)源：中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)自動(dòng)化研究所
北京市公安局海淀分局備案號(hào)：11010802023656號(hào)